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真空氣氛箱式爐配備急停按鈕,超溫報警功能,提高了設備使用的安全性。加熱腔室可用于真空或氣氛環(huán)境下的物料焙燒。 真空氣氛箱式爐廣泛應用于材料科學、化工、金屬熱處理、電子工業(yè)等領域。它能夠在無氧或低氧環(huán)境中進行加熱,以避免氧化和其他不希望發(fā)生的化學反應。 真空氣氛箱式爐的用途 材料退火:在真空或保護氣氛中對金屬材料進行退火,以消除內部應力,改善材料的微觀結構。 化學氣相沉積:在真空條件下進行化學反應,沉積薄膜或涂層。 燒結:在真空或特定氣氛中燒結粉末材料,制備高性能的陶瓷或復合材料。 金屬熱處理:進行淬火、回火等熱處理過程,改善金屬的機械性能。 半導體加工:在特定氣氛中進行氧化、擴散等工藝,制造半導體器件。 |
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