氣氛箱式爐熱處理方法運用詳解

1．1可用紅外儀和氧探頭作為傳感器進行多元控制，對氣氛碳勢、滲碳層深度做到控制。3技術思考3．1爐子的密封性和氣氛均勻性一臺高水平、高質量的多用爐應當具備：(1)密封性能良好：(2)氣氛穩(wěn)定，成分波動��；(3)爐溫控制，爐溫均勻性好；(4)監(jiān)控系統(tǒng)反映及時而準確。無論是滲碳淬火還是光亮淬火。多用爐的密封性和氣氛的均勻性都是非常重要的性能。只有均勻而良好的氣氛才能保證工件表面滲層的均勻性、成分的一致性。爐子的密封性影響著氣氛的均勻性，決定著工件的熱處理質量。為了保證氣氛的均勻性，爐內必須強制循環(huán)。將多用爐的方形結構爐膛改成圓形結構�？墒範t壁表面積減少14％～19％。成形焊縫減少60％。可減少因焊接不良或膨脹不一而漏氣隱患。圓形爐膛無貯氣死角，提高了爐內氣氛的均勻性。同時也提高了熱能的利用率，節(jié)省了電耗。

2．2氣氛碳勢控制

前些年，使用滴注式氣氛滲碳在國內已經相當普遍，尤其是氧探頭碳勢控制儀的問世。使用密封箱式多用爐和密封井式爐進行滲碳已經成為一種趨勢，并取得了明顯的效果。滲碳時需要控制的工藝參數(shù)是氣氛碳勢。在滲碳過程中氣氛碳勢過高，滲碳工件表面容易形成網狀碳化物。氣氛碳勢過高，表面碳濃度梯度太陡，滲碳層表面容易疲勞剝落，都將降低零件的使用壽命。氣氛碳勢太低，滲速降低。滲碳時間延長，也影響工件的滲碳質量。在加熱淬火．氣氛碳勢高于工件表面的含碳量，工件表面將增碳。反之工件表面將脫碳，改變了工件表面的性能。要保持工件在加熱過程不增碳、不脫碳，氣氛的控制必須。多用爐滲碳氣氛控制，可使用氧探頭、紅外儀、露點儀及電阻探頭等，使用較好的是氧探頭和紅外儀．而露點儀和電阻探頭則使用較少。

氧探頭是把所測得氣氛的氧勢值送到碳勢控制儀，根據(jù)爐溫和氧勢值計算出氣氛碳勢值，將工藝設定碳勢值與所測得碳勢值進行比較，輸出信號調整氣氛碳勢在滴注式氣氛或直生式氣氛滲碳，當滲碳氣氛中甲烷含量較高時，單獨使用氧探頭控制，容易產生碳勢失控，此時應采用聯(lián)合控制的方法進行氣氛碳勢控制，即使用氧探頭測得氧勢，紅外儀測得CO值并和爐膛溫度一起傳送給碳勢控制儀進行運算，得出的碳勢值才真實反映氣氛碳勢，這樣才不會產生氣氛碳勢的失控。所以密封箱式多用爐的氣氛碳勢控制，選用氧探頭和紅外儀進行聯(lián)合控制，從單一參數(shù)控制發(fā)展為氧勢一CO一溫度3參數(shù)控制，從而保證控制的準確性和性。

3．3關于滴注式氣氛和密封箱式多用爐眾所周知，滴注式氣氛是將滴注劑直接滴人爐內，經熱分解產生的載體氣，并可用富化氣(劑)調節(jié)氣氛的碳濃度．可以進行中小零件的滲碳、碳氮共滲、光亮淬火、球化退火及復碳等熱處理工藝以甲醇基為主的滴注式氣氛，因氣氛碳勢可控，滲速比較高，工藝操作簡便，在滲碳、碳氮共滲以及奧氏體和鐵素體氮碳共滲等化學熱處理中獲得了較為廣泛的應用由于密封箱式多用爐有很大的工藝靈活性，其爐溫、程序和氣氛的控制精度高，能適應各種零件的批量生產，因此，它是各類可控氣氛爐中應用zui廣、產量zui高的爐種。

氣氛箱式爐采用滴注式氣氛熱處理，與帶有氣體發(fā)生爐的吸熱式處理相比，由于不需要發(fā)生爐，具有節(jié)能減排，設備投資及使用費用比較低，上馬快，操作、維護及原料供應方便等優(yōu)點，是實現(xiàn)、、節(jié)能、低成本和清潔生產的先進熱處理設備，所以是中小型熱處理企業(yè)的技術改造與更新以及提高產品質量為適用的爐型和品種。